<技術一覧>
光学活性化合物の合成 | アシル化 | アミノ化 |
アルキル化 | アルキル金属の反応 | エステル化 |
エーテル化 | スルホン化 | ヒドロキシル化 |
ホウ酸化 | ニトロ化 | 金属水素化物の反応 |
Friedel-Crafts反応 | Grignard反応 | Horner-Emmons反応 |
suzuki反応 | Wittig反応 | Buchwald-Hartwing 反応 |
<設備一覧>
釜設備
1000L | SUS | 0℃~120℃ 加温:温水、スチーム 冷却:ブライン | 1基 |
500L | SUS | -5℃~20~120℃ 加温:温水、スチーム 冷却:水冷 | 1基 |
300L | SUS | 5℃~120℃ 加温:温水、スチーム 冷却:ブライン | 1基 |
300L | SUS | 30℃~250℃ 加熱:熱媒 冷却:外部水冷 | 2基 |
1000L | GL | -5℃~120℃ 加温:温水、スチーム 冷却:ブライン | 1基 |
500L | GL | -5℃~120℃ 加温:温水、スチーム 冷却:ブライン | 1基 |
200L | GL | -5℃~120℃ 加温:温水、スチーム 冷却:ブライン | 2基 |
200L | GL | -5℃~120℃ 加温:温水、スチーム 冷却:ブライン | 1基 |
反応装置
100L | GL | -60℃~240℃ 加熱:電気ヒーター(油浴、水浴) 冷却 冷媒 | 組立式×1 |
100L | SUS | -60℃~240℃ 加熱:電気ヒーター(油浴、水浴) 冷却 冷媒 | 組立式×1 |
50L | GL | -60℃~240℃ 加熱:電気ヒーター(油浴、水浴) 冷却 冷媒 | 組立式×5 |
50L | SUS | -60℃~240℃ 加熱:電気ヒーター(油浴、水浴) 冷却 冷媒 | 組立式×3 |
30L | GL | -60℃~240℃ 加熱:電気ヒーター(油浴、水浴) 冷却 冷媒 | 組立式×1 |
遠心分離機
24インチ | SUS | 遠心分離機 | 3基 |
ろ過器
65センチ | SUS | 減圧ろ過装置 | 6基 |
50センチ | SUS | 減圧ろ過装置 | 1基 |
カラム管
60cmφ | SUS | シリカゲル 100Kg | 1基 |
50cmφ | SUS | シリカゲル 40Kg | 2基 |
20cmφ | SUS | シリカゲル 10Kg | 3基 |
乾燥機
1m³ | SUS | 温風循環(電気) | 4基 |
真空加熱乾燥機 | 3基 | ||
凍結乾燥機(VirTis) | 1基 |
エバポレーター
2L | 2L ロータリーエバポレーター | 9基 | |
10L | 10L ロータリーエバポレーター | 1基 | |
20L | 20L ロータリーエバポレーター | 2基 |
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お役に立てるようであれば、御相談だけでも喜んでお受けさせて頂きます。
一期一会、出会いを大切にしております。
御連絡お待ち申し上げます。